准分子紫外线灯ONL-12001

用途:レンズの接着、光学レンズの接着、光ファイバーの接着、電子部品の仮組立・封止など。塗装・コーティングに。乗用車塗装補修、ルアー・釣竿の表面塗装、木工芸品の塗装、店舗やホテルの塗装短時間施工、プリント基板の保護コート、装飾織物の表面コート(帯地の金箔)、FRPの補修、屋外構築物の部分補修など。印刷・マーキングに。電子部品のマーキング、銘版印刷、シール・ラベル印刷、プラスチックフィルム・カードの印刷の部分補修など。紫外线精确制导，半导体工艺的明亮灯塔。准分子紫外线灯ONL-12001

特定の気体と金属蒸気の放電によって発光する電極間隔が1〜10ｍｍ程度のランプで、点灯中の圧力は100kPa以上です。リソグラフィ用UVランプとして高い評価と信頼をいただいています。ORCショートアークUVランプは高効率で紫外線を放射する点光源として、露光、乾燥、その他あらゆる産業、研究分野で利用されています。お客さまの御要望にお応えする幅広いラインナップを取りそろえており、共同開発などの課題解決のお役に立てます。SMV紫外线灯SMV8000专业紫外线灯，为半导体工业提供持久动力。

光刻机的品牌众多，根据采用不同技术路线的可以归纳成如下几类：**的投影式光刻机可分为步进投影和扫描投影光刻机两种，分辨率通常七纳米至几微米之间，**光刻机号称世界上**精密的仪器，世界上已有1.2亿美金一台的光刻机。极紫外光刻机堪称现代光学工业之花，其制造难度之大，全世界只有少数几家公司能够制造。国外品牌主要以荷兰ASML（镜头来自德国），日本Nikon（intel曾经购买过Nikon的半导体光刻机）和日本Canon三大品牌为主。

i线步进式光刻机NSR-SF155适用于半导体器件的制造。性能：Resolution分辨率≦280nm，NA0.62，Exposure light source曝光光源i-line(365nmwavelength)，Reductionratio缩小倍率1:4Maximumexposurefield，曝光范围26mm×33mm，Overlay重合精度≦25nm，Throughput产出≧200wafers/hour(300mmwafer,76shots),也可用于200mmwafer。采用悬吊投影镜头、减轻震动的“天钩构造”。通过高速运转的晶圆工作台，实现了每小时200片以上300mm晶圆的高产出。●超高产出采用了适于步进式光刻机的新平台“天钩构造”，同时晶圆工作台可高速运转，从而大幅度降低了振动，并实现了高产出。达到了每小时200片以上300mm晶圆的超高产出。高重合精度采用了“天钩构造”与配重物。并重新配置了空调管路，有利于工作室内的散热。实现了25nm以下的重合精度。使用ORC制作所生产的7.5KW超高压汞灯，对应型号：NLi-7500AL2。紫外线消毒标准，超高压汞灯、金属卤素灯，工业用灯选择。

小型・軽量で、受光部と本体が一体になったハンディタイプの計測器です。UV露光装置とUVコンベヤーのいずれにも対応した測定器です。露光装置、UVコンベヤー等の照度と光量の管理ができます。小型、軽量、薄型な、ハンディタイプです。機種は、用途に合わせてUV-351（UV-SD35相当）、UV-351-25（UV-SD25相当）、UV-351-42（UV-SD42相当）からお選びいただけます。光量測定、照度測定、ピーク照度測定など、各種の測定モードを選択できます。メタル・ボディで熱に強く、堅牢な構造です。采用较好的技术和材料，我们的紫外线灯具有长寿命、低能耗、高紫外线输出等优点。汞灯　紫外线灯UNL-12000B

以紫外线之力，突破半导体工业的极限。准分子紫外线灯ONL-12001

b.接近式曝光（Proximity Printing）:掩膜板与光刻胶基底层保留一个微小的缝隙（Gap），Gap大约为0～200μm。可以有效避免与光刻胶直接接触而引起的掩膜板损伤，使掩膜和光刻胶基底能耐久使用；掩模寿命长（可提高10 倍以上），图形缺陷少。接近式在现代光刻工艺中应用。c.投影式曝光（Projection Printing）:在掩膜板与光刻胶之间使用光学系统聚集光实现曝光。一般掩膜板的尺寸会以需要转移图形的4倍制作。优点：提高了分辨率；掩膜板的制作更加容易；掩膜板上的缺陷影响减小。投影式曝光分类：扫描投影曝光（Scanning Project Printing）。70年代末～80年代初，〉1μm工艺；掩膜板1：1，全尺寸；步进重复投影曝光（Stepping-repeating Project Printing或称作Stepper）。80年代末～90年代，0.35μm（I line）～0.25μm（DUV）。掩膜板缩小比例（4：1），曝光区域（Exposure Field）22×22mm（一次曝光所能覆盖的区域）。增加了棱镜系统的制作难度。准分子紫外线灯ONL-12001